光学元件加工的表面质量是限制大功率激光装置负载能力提高的主要因素之一，阻碍了惯性约束核聚变的发展。超光滑表面抛光技术是光学元件加工中应用铎的表面处理技术。目前，有许多成熟的抛光方法，其中化学机械抛光(CMP)应用多，是一种复合加工方法，是能提供光滑的抛光技术。影响抛光效果的因素有很多。铈基抛光液作为抛光系统的重要组成部分，其性能将直接决定抛光元件的表面质量。铈基抛光液的性能包括磨料颗粒的粒度分布、悬浮稳定性、分散性、硬度和各种添加剂的协同作用。抛光液中的添加剂对抛光液的性能有很大的影响。因此，抛光液的部署尤为重要，是化学机械抛光领域的热点之一。