氧化镧铈稀土抛光液的关键技术：公司采用合成湿法磨工艺制成高纯度超细纳米级铈基稀土抛光粉，通过将高纯度超细纳米级铈基稀土抛光粉液体化，按照相应的比例和参数，物理合成适量的稀土元素，通过中和、压缩、过滤、分级等工艺，使产品满足不同抛光产品和材质的要求。

  其产品性能：根据不同磨料和抛光产品，采用专用加工和配方，使产品表面的光洁度和光滑度达到技术要求，避免了抛光过程中的划伤和缺陷。

  产品特点：稳定性高、分散性好、抛光速度快、磨削力强、无抛光缺陷、可循环使用。

  应用领域：该系列产品主要用于集成电路、半导体硅片、电子芯片等产品的抛光。