高铈抛光液

高铈抛光液的关键技术：公司采用合成湿法磨工艺制成高纯度超细纳米级铈基稀土抛光粉，通过将高纯度超细纳米级铈基稀土抛光粉液体化，按照相应的比例和参数，物理合成适量的稀土元素，通过合成、过滤、分级等工艺，使产品满足不同抛光产品和材质的要求。应用领域：该系列产品主要用于集成电路、半导体硅片、电子芯片等产品的抛光。