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广州CMP中铈基抛光粉的制备及应用。

来源：www.btslckj.cn | 发布时间：2022年06月08日

广州CMP中铈基抛光粉的制备及应用。

由于对高精度光学透镜和集成电路化学机械抛光的严格要求，越来越多的人关注铈基抛光粉的制备和应用。为了提高其抛光性能和方法的经济可行性，采用合适的方法制备了铈基抛光粉。以大颗粒水合丙酸铈结晶为前体，通过简单的煅烧合成纳米级氧化铈。研究了煅烧温度对合成产物的物理性能的影响。

铈基抛光粉

结果表明，在丙酸铈的热分解过程中，大晶体被解理成条状，然后断裂成较小的纳米氧化铈。用激光散射法测得的中位粒径先减小，再增大，小值为460nm。XRD、SEM和TEM在1000℃时的观察结果表明，在这个温度下，煅烧得到一个粒子为20-30nm的立方体萤石氧化铈；随着煅烧温度的升高，它们对冠玻璃(K_9)和燧石玻璃(F_1)的抛光速率显著增加1000℃。抛光颗粒的浓度与氧化剂的浓度有关。掺硼立方萤石氧化铈和Ce_(1-x)Ti_o_2复合氧化物可以通过将丙酸铈晶体与适量的硼酸或硫酸钛混合而获得。随着煅烧温度或掺杂量的增加，提高了产品的密度或颗粒球形，提高了玻璃的抛光能力。证明在氧化铈中掺杂B和Ti会导致粒子球形化，提高抛光能力。

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