镧铈抛光液

  关键技术：公司采用合成湿法磨工艺制成高纯度超细纳米级铈基稀土抛光粉，通过将高纯度超细纳米级铈基稀土抛光粉液体化，按照合适的比例和参数，物理合成适量的稀土元素，通过中和、压缩、过滤、分级等工艺，使产品满足不同抛光产品和材质的要求。

  镧铈抛光液产品性能：根据不同磨料和抛光产品，采用专用加工和配方，使产品表面的光洁度和光滑度达到技术要求，避免了抛光过程中的划伤和缺陷。

    产品特点：

  稳定性高、分散性好、抛光速度快、磨削力强、五抛光缺陷、可循环使用。

  应用领域：该系列中端产品主要应用于精密光学玻璃镜片、黑色金属和有色金属、塑料和聚合物部件、红外材料和激光晶体、生物医学植入物和设备、金属样品制备、光纤和组件、航空和航空零部件、蓝宝石光学基板、标准玻璃、视频玻璃的抛光研磨。

  该系列产品主要用于集成电路、半导体硅片、电子芯片等产品的抛光，为我国稀土抛光材料产业发展掀开新的篇章。